Resiste & Coatings für funktionelle und dekorative Glasgestaltung

Das KIWO-Resist-Programm umfasst  Produkte für unterschiedlichste Anwendungen und Verarbeitungs- / Applikationsmethoden.

 

Ob thermisch härtbare Ätz- und Galvano-Resiste für den Einsatz in sauren und alkalischen Ätz- und Galvanobädern, für konturenscharfen Siebdruck von Glas oder Mono- und polykristalline Solarwafer oder abziehbare und wasserbeständige siebdruckfähige Masken mit guter Beständigkeit gegen wässrige Reinigungsprozesse, wie sie üblicherweise in der Vorreinigungsstufe vor der Glasveredelung eingesetzt werden, KIWO bietet unterschiedlichste Produkt-Lösungen.

Als innovatives Produkt ist KIWOMASK W 140 besonders hervorzuheben, das ohne Chemieeinsatz nach dem Veredelungsprozess einfach abgezogen werden kann.

Sandstrahlbeständige Siebdruck-Maske, elastisch- und wieder leicht entfernbar, bis hin zu UV-reaktiven Sandstrahl-Fotolacken für Rakel oder Sprüh-Applikation mit erzielbaren Konturenfeinheiten bis zu 75 µm (bei geeignetem feinkörnigen Sandstrahlmittel) sind Beispiele für interessante Produktentwicklungen. Bei höherer Schichtstärke eignet sich der Fotolack auch für Tiefensandstrahlung zur Darstellung mehrdimensionaler Effekte.

 

Eine Novität ist die „flüssige Schutzfolie“ KIWOMASK W 120 zum Schutz von Glas vor mechanischer Beanspruchung. Die Schutzfolie (Applikation mittels Sprühen, Walzen oder Tauchen) ist nach dem Trocknen elastisch und leicht wieder abziehbar.

 

 

 

 

Folgen Sie uns auf

Facebook    Twitter    LinkedIn

KIWO benutzt sog. Cookies, um bestimmte Services für Sie zur Verfügung stellen zu können. Weitere Informationen und OptOut Verstanden