KIWOMASK W 855

Siebdruckfähiger Ätzresist. Beständig gegenüber sauren Ätzbädern. KIWOMASK W 855 wird zum Ätzen von Leiterbahnen oder auch bei der partiellen Beschichtung von Oberflächen mittels Plasmaprozessen (Sputtering) eingesetzt. Durch die hohe mechanische Beständigkeit, eignet sich KIWOMASK W 855 besonders für Anwendungen, bei denen die Oberfläche vor dem Ätz- oder Beschichtungsprozess mechanisch mit Bürsten gereinigt wird. Strippen mit Natron-, Soda- bzw. Kalilauge (3–5 %ig), mit organischen Lösemitteln oder der gebrauchsfertigen Lösung PREGASOL R 800.

 

Technische Informationen:

KIWOMASK W 855 - DE

KIWOMASK W 855 - EN

 

 

KIWOMASK W 850 Etch

Siebdruckfähiger Resist für konturenscharfen Druck zur partiellen Abdeckung von Glas (z. B. Sputtering / partielle Verspiegelung). Aufgrund der guten Beständigkeit gegen verschiedene Säuren ist KIWOMASK W 850 auch als Ätz- und Galvanoresist geeignet. Gute Beständigkeit gegen wässrige Reinigungsprozesse. Strippen mit Natron-, Soda bzw. Kalilauge (3–5 %ig), mit organischen Lösemitteln oder der gebrauchsfertigen Lösung PREGASOL R 800.

 

Technische Informationen:

KIWOMASK W 850 Etch - DE

KIWOMASK W 850 Etch - EN

Factsheets:

KIWOMASK W 850 Etch - DE

KIWOMASK W 850 Etch - EN

 

 

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