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Industrielle Siebdruckanwendungen

Ob optische oder funktionale Bedruckung – der industrielle Siebdruck bietet eine erstaunliche Variantenvielfalt. Der klassische grafische Siebdruck hat sich bereits dem technologischen Wandel unterzogen und erfindet sich vor allem im industriellen Bereich immer wieder neu.

In der Industrie kann das Siebdruckverfahren seine Stärken voll und ganz entfalten. Dies bezieht sich ganz wesentlich auf die Anwendungsvielfalt, die Rationalisierungsmöglichkeiten und die Individualisierung von Druck- bzw. Beschichtungsprozessen, welche das Siebdruckverfahren in bestehende Fertigungsabläufe integriert. Für die Industrie bedeutet das ganz neue und ungeahnte Produktionsmöglichkeiten und Komplettlösungen aus einem Guss.

 

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Aktuelle Veranstaltungen

DRUPA 2016 in Düsseldorf

31. Mai - 10. Juni

Messe Düsseldorf

Halle 3, Stand B 71-1

Beflockung von Kunststoffen

Seminar
22. Juni 2016
SKZ Weiterbildungs-Zentrum Würzburg

glasstec 2016 in Düsseldorf

20.-23. September 2016

Messe Düsseldorf

Halle 12, Stand D49

Inkjet Engineering & Inkjet Chemistry

Inkjet Engineering & Inkjet Chemistry
5. - 6. Oktober2016
Düsseldorf

K 2016 in Düsseldorf

19.-26. Oktober

Messe Düsseldorf

Halle 5, Stand A01

 

 

AZOCOL Z 170 FL

AZOCOL Z 170 FL auf 400-018 Spezial-Gewebe; 20 µm Linie

Dual-Cure Diazo-High-End-Kopierschicht für Linienbreiten unter 30 µm - speziell für den Einsatz in der Solarindustrie und gedruckten Elektronik

 

Im Rahmen der gedruckten Elektronik gibt es zahlreiche Anwendungen, in welchen das Siebdruckverfahren zum Einsatz kommt. Hierzu zählen beispielsweise OLEDs, Touch Panels und Displays, aber auch LTCC (Low Temperature Cofired Ceramics), MLCC (Multi Layer Ceramic Capacitor) und Brennstoffzellen sind in diesem Zusammenhang zu nennen. Aktuell können hierbei bereits 20 µm und weniger aufgelöst und gedruckt werden.

 

Die Solarzellenherstellung (sowohl mono- als auch multikristalline Zellen) zeigt einen weiteren Bereich auf, in welchem immer dünnere aber gleichzeitig höhere Finger aus Silberleitpaste gefordert werden. So sollen hohe Leistungsquerschnitte und eine möglichst geringe Lichtabschattung auf den Siliziumwafern erreicht werden. Es können bereits serienmäßig 30 µm feine Linien im Siebdruck realisiert werden.

 

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Resiste & Coatings für funktionelle und dekorative Glasgestaltung

Wir bieten unseren Kunden Resiste & Coatings für die funktionelle und dekorative Glasgestaltung mit anwendungsorientierten Lösungen.

 

Ob thermisch härtbare Ätz- und Galvano-Resiste für den Einsatz in sauren und alkalischen Ätz- und Galvanobädern, für konturenscharfen Siebdruck von Glas oder Mono- und polykristalline Solarwafer oder abziehbare und wasserbeständige siebdruckfähige Masken mit guter Beständigkeit gegen wässrige Reinigungsprozesse, wie sie üblicherweise in der Vorreinigungsstufe vor der Glasveredelung eingesetzt werden, KIWO bietet unterschiedlichste Produkt-Lösungen.

 

Als innovatives Produkt ist KIWOMASK W 140 besonders hervorzuheben, das ohne Chemieeinsatz nach dem Veredelungsprozess einfach abgezogen werden kann.

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